无掩模黄光室工艺-江苏迪盛微电子

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    2024-2-11

田女士
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  • 主营产品|网版---机,直接成像,ldi
  • 单位地址| 江苏省苏州市吴中区金山南路868号锐晶大厦B座2楼
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江苏迪盛智能科技有限公司介绍

江苏迪盛智能科技有限公司成立于江苏徐州丰县经济开发区,旗下有友迪激光、芯迪半导体科技、江苏钧迪智能装备三个独立子公司,占地20000平米,其中含1000平米洁净厂房,并在苏州建立研发中心,已有研发团队30人,涵盖光机电软与运动系统。主要产品有直接成像、激光晒网、网版---机、di/ldi机、激光---机、无菲林晒网机、无菲林---机、dis、cts、网版di、ctp等,欢迎来电咨询!




di直接成像---机


1、技术优势:

所有miva 位图影像系统使用的---程序,使用率半导体光源系统和高解析度的光学模组,此系统将高清晰度的影像转移至感光基材,根据产品需求解析度可从3000dpi 到128000dpi,光学头在板材上方连续移动---,高解析度的线性电机和光学尺可实现的位置控制。


2、耗电低:

待机时只需消耗350w,---时消耗2.5kw,这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗,故机台本身十分节能。机台可使用单相电源。






ldi机

ldi---速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响---速率:

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的---,无掩模黄光室工艺,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为---量等于功率乘上时间,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的---时间就比较短。而---系统的功能输出,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。





无掩模黄光室工艺-江苏迪盛微电子(在线咨询)由迪盛(武汉)微电子有限公司提供。迪盛(武汉)微电子有限公司坚持“以人为本”的企业理念,拥有一支高素质的员工队伍,力求提供---的产品和服务回馈社会,并欢迎广大新老客户光临惠顾,真诚合作、共创美好未来。迪盛智能——您可---的朋友,公司地址:江苏省苏州市吴中区金山南路868号锐晶大厦b座2楼,联系人:田女士。



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